Arbeitskreissprecher

Prof. Michael Heuken
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Aixtron SE
Dornkaulstraße 2 , 52134 Herzogenrath
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Arbeitskreistreffen

Nov./Dez. 2024, Berlin organisiert durch Paul Drude Institut

Die Züchtung dünner, einkristalliner Schichten oder Strukturen von wenigen Nanometern bis Mikrometern spielt eine wichtige Rolle für die Herstellung z. B. elektronischer und optoelektronischer Anwendungen. An Züchtungsmethoden werden die Gasphasenepitaxie – auch mit metallogranischen Ausgangsstoffen - die Molekularstrahlepitaxie oder Flüssigphasenepitaxie eingesetzt. Der Arbeitskreis Epitaxie verbindet die mannigfaltigen Interessen von Forschung und Industrie an grundlagenorientierten Fragestellungen des Schichtwachstums mit den hohen technologischen Anforderungen an die Züchtungsanlagen. Spezifische Methoden der Charakterisierung extrem perfekter und dünner Kristalle sind ebenfalls im Arbeitskreis Epitaxie beheimatet.